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镀膜式高光谱成像系统LAMBDA-VN-EDU

 物体的光谱特性与其内在的理化特性紧密相关,使得物体的光谱具有“指纹”效应,故可根据光谱特征来分辨不同的物质成分信息。  
高光谱成像是用大量窄而连续的光谱通道对目标进行成像,将传统的二维成像技术和光谱技 术有机结合所产生的一门新兴技术,具有非破坏性、操作简便、重复性好、可实时在线检测等优点。 高光谱成像能够同时确定物质的内在属性和外在属性,通过“图谱合一”的方式直观地展示物质成 分及其空间分布。 

产品详情

镀膜式高光谱成像系统LAMBDA-VN-EDU简介

 物体的光谱特性与其内在的理化特性紧密相关,使得物体的光谱具有“指纹”效应,故可根据光谱特征来分辨不同的物质成分信息。  

高光谱成像是用大量窄而连续的光谱通道对目标进行成像,将传统的二维成像技术和光谱技 术有机结合所产生的一门新兴技术,具有非破坏性、操作简便、重复性好、可实时在线检测等优点。 高光谱成像能够同时确定物质的内在属性和外在属性,通过“图谱合一”的方式直观地展示物质成 分及其空间分布。 

技术优势 

Lambda-VN-Edu是无锡谱视界科技有限公司面向科教市场推出的一款基于渐变镀膜分光技术的镀膜式高光谱 成像系统,它集成了光谱图像模块、驱动电源、运动控制模块、数据采集模块等,外观简洁,操作方便。用户可借助配套 软件实现自动曝光、自动匹配扫描速度,简单操作即可在光谱覆盖范围内以数十或数百个光谱通道对目标物体进行连 续推扫成像,在获得物体空间特征图像的同时也获得其光谱信息。同时,系统也提供数据的校准、预处理和选择性导出 等功能,便于用户对采集到的高光谱图像进行初步分析。 

镀膜式高光谱成像系统LAMBDA-VN-EDU产品参数

仪器型号  LAMBDA-VN-EDU 
光谱范围  450-1000nm 
光谱分辨率  12nm-546nm 
光谱通道数  >100 
焦距 25(其他焦距可选*)
工作距离 150-∞
视场角 23°
探测器 4504X4096 CMOS

像素数

(空间维X扫描维)

3200X3200(1X)

1600 X1600(2X)

800X800(4X)

像素尺寸 2.5 X2.5μm
数字输出 12bit
帧数 20fps
曝光时间范围 11μs-1s
通讯接口 USB3.0
电源 12V